深紫外光学系统是歪歪巴图光学针对半导体制造工艺中的缺陷检测需求而开发的高端光学产品。该系统采用自主知识产权的专利物镜设计，工作波长有193nm、257nm、266nm，特别适用于先进制程芯片的光罩缺陷检测、晶圆暗场缺陷检测等关键工艺环节。
相比传统深紫外物镜，我们的产品在工作距离方面实现了重大突破，较常规物镜增加50%以上，有效避免了物镜与样品的碰撞风险，同时保持了优异的成像分辨率和光通量。
📊 产品介绍
✨ 产品特点
- 超长工作距离：相比传统物镜增加50%以上，降低碰撞风险
- 高分辨率成像：在深紫外波段实现亚微米级分辨率
- 专利光学设计：自主知识产权，性能达到国际领先水平
- 优异的色差校正：在激光带宽内保持良好的成像质量
- 高光通量：提高检测效率，缩短测量时间
- 大视场：视场大小超过竞品
- 模块化设计：便于集成到各种检测设备中
- 完善的售后服务：提供技术支持和定制化服务
📊 技术参数
| 参数名称 | 技术指标 |
|---|---|
| 工作波长 | 193nm、257nm、266nm (可选) |
| 数值孔径(NA) | 0.65 - 0.9 (可选) |
| 工作距离 | ≥8mm (可定制) |
| 视场直径 | 0.2mm - 3mm (根据NA定制) |
| 放大倍率 | 20X - 50X (可选) |
| 工作温度 | 20±1°C |
🏭 应用场景
深紫外光学系统广泛应用于半导体制造的各个环节，特别适用于以下场景：
暗场有图形缺陷检测
有图形晶圆的缺陷检测
暗场无图形缺陷检测
无图形晶圆的缺陷检测
光罩缺陷检测
60nm节点及以下光罩缺陷检测